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半导体超纯水设备是一种结合反渗透技术和EDI技术的水处理设备。该设备可去除水中的导电介质有机物。不溶性胶体及其化学杂质。广泛应用于半导体材料、电池、电路板等电子行业。由于使用行业对水质的特殊要求，应注意日常维护。以下是半导体超纯水设备的技术维护方法。
由于生产过程中出现波动，必须采取保护措施，波动过程中处理不当会导致膜性能下降。
1.15d以下的系统短期保存，每1~3d低压冲洗可采用保护反渗透设备的方法。
2.停机15d以上的系统为长期停机保护，反渗透装置必须用保护液(杀菌剂)充入净水设备。
在半导体超纯水设备的运行过程中，反渗透装置的脱盐率可能会下降，水力下降。
压差上升，甚至对薄膜造成不可恢复的损伤。这是因为反渗透膜可能被无机污垢、胶体、微生物、金属氧化物等污染。因此，为了恢复良好的透水性和盐去除性能，需要对薄膜进行化学清洗，一般每3~12个月清洗一次。
许多用户在使用超纯水设备时，会非常注意如何正确使用设备，如何维护超纯水设备，以下是如何正确使用超纯水设备。
使用超纯水设备制备超纯水时，首先检查设备各部分及其连接管之间是否有异常。设备检测正确后，打开总电源开关，逐步打开原水阀，然后打开高压泵，听设备运行异常，观察蜂房过滤器。活性炭过滤器，压缩活性炭过滤器，安全过滤器。
反渗透系统进出口的水压，必须确保各过滤设备的进出口水压差在合理范围内，并控制反渗透水。中断和浓水的压力也在合理范围内，才能正式投入使用。
使用时，打开一个出水阀，控制混合床的进出水压力。精密过滤器的压力在要求范围内，以确保出水电阻率大于10mΩ·cm。在此过程中，我们需要注意观察春季水槽中的储水情况，以免因抽水或储水过多而导致水质恶化，从而影响混合床树脂的使用寿命。
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